定期對電解液中的雜質進行清理

  陽極氧化溶液中主要的雜質是Al3+、Cu2+、Fe2+、Cl-、F-、NO3-等，當 C1-、F-、NO3-等陰離子雜質含量高時，陽極氧化膜的孔隙率會大大增加，氧化表面變得粗糙和疏松，這些雜質在氧化溶液中的允許含量為[Cl一]<0．059／L，[F一]<0．019／L等。氧化溶液中的Al3+主要來自工件在氧化過程中的溶解，當溶液中[A13+]>209／L時，氧化膜表面呈現白點或塊狀白斑，氧化膜的吸附性能下降，造成染色困難。當[Cu2+]含量達到0．029／L時，氧化膜會出現暗色條紋和黑色斑點。要排除Cu2+，可以通直流電，陽極電流密度控制在0．1A／ dm2～0．2A／dm2左右，溶液中的金屬銅便在陰極上析出。當Cu2+含量很高時，可先用鉛板直接放人電解液中，這時鉛板上會很快置換上一層金屬銅。用此法可去除含量較高的銅離子，而后再通電處理，可以徹底去除Cu2+。如雜質含量超過允許值，可部分或全部更換陽極氧化溶液。
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